脉冲激光沉积镀膜机PLD

简要描述：脉冲激光沉积镀膜机PLD系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

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厂商性质：经销商
更新时间：2024-03-28
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一、产品概述：

脉冲激光沉积镀膜机PLD系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成

二、设备用途：

脉冲激光沉积镀膜机PLD是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。PLD非常适合生长多元氧化物的多层膜和异质膜，轻松实现对化学成分较复杂的复合物材料进行材料生长。在生长过程中还可以实现引入活性或惰性及混合气等工艺气体，以提高薄膜生长品质。

三、技术参数：

1. 基片尺寸：8inch（可向下兼容）

2. 加热温度：1000℃ 加热方式：辐射加热

3. 靶材：3*4”

4. 真空度：5*10-7Pa

5. 气路系统：氧气、氮气、氩气

6. 模块：PLD+进样室

7. 激光窗口：配有闸板阀

8.光路系统：激光扫描功能

四、企业简介：

是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

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