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等离子增强化学气相沉积PECVD(1) 应用方向:高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途;用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀(2) 电阻丝加热电极,最高温度可达400°C或1200°C(3) 实时监测清洗工艺, 并且可自动停止工艺(4) 晶圆最大可达200mm,可快速更换硬件以适用于不同尺寸的晶圆。
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