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  • 化学气相沉积MOCVD

    化学气相沉积MOCVD 简介: 1. MOCVD设备是通过将反应物质以有机金属化合物气体分子的形式,经载带气体送到反应室,进行热分解反应而生长出薄膜材料 2. 应用方向:Ga2O3,GaN, InP, GaAs, InSb, GaInNAs, II-VI等等 3. 从研发到大规模生产 4. 衬底尺寸:3x2 inch、1x4 inch、1x3 inch、1x2 inch

    更新时间: 2024-03-28
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    厂商性质: 经销商
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