等离子增强化学气相沉积PECVD

简要描述：等离子增强化学气相沉积PECVD(1) 应用方向：高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途；用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀(2) 电阻丝加热电极，最高温度可达400°C或1200°C(3) 实时监测清洗工艺，并且可自动停止工艺(4) 晶圆最大可达200mm，可快速更换硬件以适用于不同尺寸的晶圆。

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厂商性质：经销商
更新时间：2024-03-28
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一、等离子增强化学气相沉积PECVD产品介绍：

(1) 应用方向：高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途；用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀

(2) 电阻丝加热电极，最高温度可达400°C或1200°C

(3) 实时监测清洗工艺，并且可自动停止工艺

(4) 晶圆最大可达200mm，可快速更换硬件以适用于不同尺寸的晶圆

(5) 高导通的径向（轴对称）抽气结构：确保提升了工艺均匀性和速率

(6) 增加了<500毫秒的数据记录功能：可追溯腔室和工艺条件的历史记录

(7) 通过前端软件进行设备故障诊断，故障诊断速度快

(8) 用干涉法进行激光终点监测：在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物)，或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界

(9) 用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测：监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测

二、等离子增强化学气相沉积PECVD企业简介：

是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

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