磁控溅射镀膜机Sputter

简要描述：磁控溅射镀膜机Sputter应用领域：巨磁电阻（GMR）、组合材料科学（CMS）、半导体、超导体、纳米级器件、光子学、光伏（PV）、OLED（发光二极管）、有机薄膜。

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详细介绍

一、磁控溅射镀膜机Sputter应用领域：

巨磁电阻（GMR）、组合材料科学（CMS）、半导体、超导体、纳米级器件、光子学、光伏（PV）、OLED（发光二极管）、有机薄膜。

二、磁控溅射镀膜机Sputter技术参数：

1. 最大样品尺寸：8英寸

2. 溅射源：强磁靶、永磁靶，数量根据用户定制

3. 电源：直流电源、射频电压

4. 真空系统：超高真空

5. 样品台加热：最高至1100℃

6. 控制系统：全自动控制

7.进样室：根据用户需求定制

三、企业简介：

是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

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