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一、电子束蒸发镀膜机E-Beam产品概述：
系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成。
二、电子束蒸发镀膜机E-Beam设备用途：
本系统配有一套电子枪及电源，可满足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要
三、技术参数：
1. 真空室尺寸：定制
2. 极限真空度：≤6.0E-5Pa
3. 沉积源：6个40cc坩埚
4. 温度：最高300℃
5. 电控描述：全自动
6. 工艺：片内膜厚均匀性：≤±3%
7.特色参数：样品尺寸及数量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架
四、企业简介：
是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、 、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
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