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快速退火炉RTP

简要描述:快速退火炉RTP 1. 主要功能:快速热退火,快速热氧化,快速热氮化,扩散,化合物半导体退火,离子注入后退火,电极合金化等2. 样片尺寸:8inch,向下兼容,支持不规整样品退火3. 退火温度范围:室温~1200 ℃。4. 室温到1000度,最快升温速率120 ℃/second

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-03-28
  • 访 问 量:387

详细介绍

一、快速退火炉RTP产品性能:

1. 主要功能:快速热退火,快速热氧化,快速热氮化,扩散,化合物半导体退火,离子注入后退火,电极合金化等

2. 样片尺寸:8inch,向下兼容,支持不规整样品退火

3. 退火温度范围:室温~1200 ℃。

4. 室温到1000度,最快升温速率120 ℃/second

5. 全程热电偶测温,不使用高温计,无需额外校准

6. 退火温度的重复性、准确性 ± 1 ℃

7. 两路工艺气体,MFC流量计控制,流量为0-5NLM

8. 可通入氮气、氧气,可以分别通入或者通入混合气体

9. 可选择真空退火模式,真空度可达10^-6hpa

10. 配置前级泵,抽速3L/s,极限压力4*10-2pa

11.SPS SIMATIC 软件控制工艺过程,可编程序不少于50个,且每个程序可编程步骤不少于50步。

二、快速退火炉RTP企业简介:

是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、 、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。


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