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一、分子束外延薄膜沉积系统MBE产品概述：
1. 分子束外延，是在超高真空系统中把所需要的结晶材料放入到喷射炉中，将喷射炉加热。使结晶材料形成分子束，从炉中喷出后，沉积在高温的单晶基片上。如果设置几个喷射炉，就可以制取多元半导体混晶，又可以同时进行掺杂。可以精确地控制结晶生长，进行沉积系统中结晶生长过程的研究。
二、分子束外延薄膜沉积系统MBE技术参数：
1. 12个源炉：镓、铟、铝、砷、锑、磷、铋、硅、镁、掺杂等
2. 衬底：最大4inch
3. 最高温度：1000°C 温度均匀性：≤±3°C（4inch）
4. 超高真空下全自动样品转移
5. 用于过程控制和分析的所有现代现场监控功能
6. 一个集群上最多7个超高真空功能单元：装载、储存、翻转、处理、排气、生长，外部腔室
7.可连接其他分析设备或其他：ALD、PLD、PVD、金属化、STM......
三、企业简介：
是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、 、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
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