无掩膜/激光直写光刻机

简要描述：无掩膜/激光直写光刻机参数：1. 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器
2. 线宽：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm3. 光刻效率：可达到3000mm2/min@5μm4. XY行程：55~205mm5. 样品尺寸：最小3mm*3mm 最大8 inch6.应用领域：生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、先进芯片封装、光通讯。

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厂商性质：经销商
更新时间：2024-03-29
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一、无掩膜/激光直写光刻机产品介绍：

1. 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器

2. 线宽：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm

3. 光刻效率：可达到3000mm2/min@5μm

4. XY行程：55~205mm

5. 样品尺寸：最小3mm*3mm 最大8 inch

6.应用领域：生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、先进芯片封装、光通讯芯片光刻

二、无掩膜/激光直写光刻机公司简介：

是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

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