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  • 多腔等离子体工艺系统

    多腔等离子体工艺系统-概述:$n1.方案是适用于最大 8 吋晶圆的多腔等离子体沉积/刻蚀工艺系统$n2.系统可用于研发和小批量生产$n3.系统兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圆和不规则碎片;不同尺寸样片之间的切换、无需反应腔的开腔破真空

    更新时间: 2024-03-28
    型号:
    厂商性质: 经销商
    浏览量: 395
  • 多腔等离子体刻蚀系统

    多腔等离子体刻蚀系统-概述: 1.方案是适用于最大 8 吋晶圆的多腔等离子体刻蚀工艺系统 2.系统可用于研发和小批量生产 3.系统兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圆和不规则碎片;不同尺寸样片之间的切换、无需反应腔的开腔破真空

    更新时间: 2024-03-28
    型号:
    厂商性质: 经销商
    浏览量: 388
  • CIF透射电镜样品杆存储仪

    CIF透射电镜样品杆存储仪采用无油隔膜泵,通过抽真空产生100 Pa恒定洁净无污染的真空环境,特别适用于TEM透射电镜样品杆的日常真空储存或水汽去除,简单方便实用。

    更新时间: 2024-03-28
    型号:
    厂商性质: 经销商
    浏览量: 603
  • CIF烤胶机

    CIF烤胶机采用智能程序化控温技术,控温精准均匀,加热快速高效,维修简单方便,控温范围在室温-360℃之间,控温精度达到0.1℃。适用于各种控温精度高,加热均匀性要求高的实验室。

    更新时间: 2024-03-28
    型号:
    厂商性质: 经销商
    浏览量: 666
  • CIF匀胶机

    CIF匀胶机转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片、载玻片,晶片,基片,ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

    更新时间: 2024-03-28
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    厂商性质: 经销商
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  • CIF臭氧中和器

    CIF臭氧中和器(UVO-N)用于紫外臭氧清洗机臭氧去除配套设备。主要是通过纳米级金属氧化物催化剂分解臭氧,以及利用臭氧的不稳定性加速臭氧快速流动从而达到快速去除臭氧的目的。

    更新时间: 2024-03-28
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    浏览量: 588
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