中央供药系统

简要描述：中央供药系统简介：
1.用于厂内供药，通过该系统可以按照设定的配比，将特定的药液通过相应的管路供应到制程中。
2.该系统供药配比精确，配方可根据客户需要进行编辑确认，容量大小根据客户需求进行定制。

产品型号：
厂商性质：经销商
更新时间：2024-03-28
访问量：473

产品咨询联系我们

产品分类

Product Category

多腔等离子体工艺系统 118金宝搏app CIF透射电镜样品杆存储仪 CIF烤胶机 118bet金博宝 CIF臭氧中和器 CIF紫外臭氧清洗机 118金宝搏app下载 CIF手套箱专用等离子清洗机 CIF透射电镜样品杆清洗机 CIF等离子去胶机 RIE反应离子刻蚀机 3.CIF 生产型等离子清洗机 CIF 实验室型等离子清洗机2 CIF 实验室型等离子清洗机刻蚀机终点检测系统有掩膜光刻机无掩膜/激光直写光刻机步进式Stepper光刻机 118bet金博宝下载纳米压印系统喷涂胶机实验型匀胶机充氮型程控烤胶机等离子清洗&去胶机槽式湿法刻蚀清洗设备电镀设备磁控溅射镀膜机Sputter 热蒸发镀膜机Thermal Evaporation 镀膜机等离子增强化学气相沉积PECVD 电感耦合等离子体刻蚀ICP 反应性离子刻蚀系统RIE 离子束刻蚀系统IBE 深硅刻蚀系统DEEP SI ETCH 化学气相沉积MOCVD 118金宝搏离子注入机快速退火炉RTP 激光退火设备化学机械抛光机CMP CMP后清洗机划片机减薄机中央供药系统晶圆甩干机全自动SCRUBBER清洗机低压化学气相沉积系统LPCVD
查看全部产品

详细介绍

一、中央供药系统产品介绍：

1.中央供药系统用于厂内供药，通过该系统可以按照设定的配比，将特定的药液通过相应的管路供应到制程中。适用药液包括：酸性（H2SO4,HCL,HNO3,H3PO4,HF,BOE等），碱性（NH4OH, NAOH, KOH等），有机（IPA, ACE, 去胶，去蜡等），抛光液（金刚石抛光液，化学抛光液等）。

2.该系统供药配比精确，配方可根据客户需要进行编辑确认，容量大小根据客户需求进行定制。

二、企业简介：

是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

产品咨询

留言框

产品：
您的单位：
您的姓名：
联系电话：
常用邮箱：
省份：
详细地址：
补充说明：
验证码：

请输入计算结果（填写阿拉伯数字），如：三加四=7

上一篇：钛宝石飞秒激光放大器

下一篇：深能级瞬态谱仪(DLTS)

中央供药系统

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：