半导体烘箱

简要描述：半导体烘箱参数：
1.高性能无氧烘箱能够在氧气浓度低至500 ppm 的气氛中，加热高达 500℃ 的温度，并对材料进行热处理。非常适合各类退火，退应力，和各类抗氧化热处理
2.含氧控制：500PPM以内
3.温度范围：Room temp. +20~500℃
4.控温精度：±1.0℃
5.温度均匀性：±2.5%℃
6.升温时间：RT~ 500℃≤60min
7.容量：可定制

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厂商性质：经销商
更新时间：2024-03-28
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详细介绍

一、半导体烘箱产品简介：

1. 高性能无氧烘箱能够在氧气浓度低至500 ppm 的气氛中，加热高达 500℃ 的温度，并对材料进行热处理。非常适合各类退火，退应力，和各类抗氧化热处理

一、半导体烘箱产品参数：

3. 含氧控制：500PPM以内

4. 温度范围：Room temp. +20~500℃

5. 控温精度：±1.0℃

6. 温度均匀性：±2.5%℃

7. 升温时间：RT~ 500℃≤60min

8.容量：可定制

二、企业简介：

是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

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