半导体烘箱 参数： 1.高性能无氧烘箱能够在氧气浓度低至500 ppm 的气氛中，加热高达 500℃ 的温度，并对材料进行热处理。非常适合各类退火，退应力，和各类抗氧化热处理 2.含氧控制：500PPM以内 3.温度范围：Room temp. +20~500℃ 4.控温精度：±1.0℃ 5.温度均匀性：±2.5%℃ 6.升温时间：RT~ 500℃≤60min 7.容量：可定制