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低压化学气相沉积系统LPCVD

简要描述：低压化学气相沉积系统LPCVD 简介：
1. 满足石墨烯和碳纳米管研究的高温和快速冷却要求
2. 直径200毫米的石英室
3. 内部石英管的设计便于拆卸和清洗
4. 基片尺寸可达直径150毫米
5. 三区电阻炉，150毫米的均匀温度区

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  • 厂商性质：经销商
  • 更新时间：2024-03-28
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    一、低压化学气相沉积系统LPCVD产品介绍：

    1.满足石墨烯和碳纳米管研究的高温和快速冷却要求

    2. 直径200毫米的石英室

    3. 内部石英管的设计便于拆卸和清洗

    4. 基片尺寸可达直径150毫米

    5. 三区电阻炉，150毫米的均匀温度区

    6. 温度最高可达1000°C

    7. 使用节流型VAT蝶形阀下游压力控制在50 mTorr到500 mTorr之间

    8.88立方英尺/分的Ebara ESA25-D干式真空泵 - 两级干式真空

    二、低压化学气相沉积系统LPCVD企业简介：

    是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

    致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、 、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

    公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。


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