离子束刻蚀系统IBE

简要描述：离子束刻蚀系统IBE 的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

产品分类

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详细介绍

一、离子束刻蚀系统IBE产品介绍：

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

(1) 磁阻式随机存取存储器（MRAM）

(2) 介电薄膜

(3) III-V族光电子材料刻蚀

(4) 自旋电子学

(5) 金属电极和轨道

(6) 超导体

(7) 激光端面镀膜

(8) 高反射（HR）膜

(9) 防反射（AR）膜

(10) 环形激光陀螺反射镜

(11) X射线光学系统

(12) 红外（IR）传感器

(13) II-VI族材料

(14)通信滤波器

二、离子束刻蚀系统IBE企业简介：

是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

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