反应性离子刻蚀系统RIE

简要描述：反应性离子刻蚀系统RIE 产品概述：
1. 可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺
2. 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆，快速更换到不同尺寸的晶圆工艺
3. 电极的适用温度范围宽，-150°C至400°C
4. 应用方向
(1) III-V族材料刻蚀工艺
(2) 固体激光器 InP刻蚀
(3) VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
(4) 射频器件低损伤 GaN刻蚀

产品型号：
厂商性质：经销商
更新时间：2024-03-28
访问量：583

产品咨询联系我们

产品分类

Product Category

详细介绍

一、反应性离子刻蚀系统RIE产品介绍：

1. 可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺

2. 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆，快速更换到不同尺寸的晶圆工艺

3. 电极的适用温度范围宽，-150°C至400°C

二、反应性离子刻蚀系统RIE应用方向：

(1) III-V族材料刻蚀工艺

(2) 固体激光器 InP刻蚀

(3) VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀

(4) 射频器件低损伤 GaN刻蚀

(5) 类金刚石（DLC）沉积

(6) 二氧化硅和石英刻蚀

(7) 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺，可处理封装好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圆用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀。

三、企业简介：

是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

产品咨询

留言框

产品：
您的单位：
您的姓名：
联系电话：
常用邮箱：
省份：
详细地址：
补充说明：
验证码：

请输入计算结果（填写阿拉伯数字），如：三加四=7

上一篇：喷涂胶机

反应性离子刻蚀系统RIE

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：