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一、有掩膜光刻机产品介绍:
1. 手动、半自动、全自动有掩膜光刻机
2. 高分辨率掩模对准光刻,特征尺寸优于0.5微米
3. 基片尺寸可满足4、6、8、12英寸
4. 经过特殊设计,方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的III-V族材料,包括砷化镓和磷化铟。
5. 设备可通过选配升级套件,实现紫外纳米压印光刻。
二、企业简介:
是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。
致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、 、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。
公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。
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