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概述:高真空互联物理气相薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业优质的软件控制系统;4英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性:≤±2.5%,8英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性:≤±3.5%,测定标准以Ti靶材,溅射200——500nm厚薄膜,边缘去5mm,随机5点取样测定为准。
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